拋光液也就是工業硅溶膠。硅溶膠為納米級的二氧化硅顆粒在水中或溶劑中的分撒液。由于硅溶膠中的SiO2含有大量的水及羥基，故硅溶膠也可以表述為SiO2.nH2O。制備硅溶膠有不同的途徑。蕞常用的方法有離子交換法、硅粉一步水解法、硅脘水解法等。這些方法所用的原料不同，所走的工藝路線不同，所產生的終產品的性能與生產成本也不同。硅溶膠的離子交換工藝為美國的NALCO公司在上世紀40年代研發，后由美國杜邦公司等在五，六十年代完善，不銹鋼拋光蠟，目前為成熟也是為廣泛使用的工藝。該工藝對水玻璃、離子交換樹脂等材料以及操作工藝有一定的要求，而這些正是國產品的弱勢。相對來說，硅粉一步水解法的工藝比較簡單，目前在國內被廣泛使用。然而，用該法制備的硅溶膠通常顆粒大小在10-20納米左右，顆粒間的界面不清晰，拋光蠟，形貌為非球形且無法控制，顆粒間的界面不清晰，故通常只是被大量使用在鑄造等行業，而在精密拋光，拋光蠟批發，催化劑等許多要求更高的領域則無大建樹。

拋光蠟的常用使用方法如下：

1.機械拋光使用拋光蠟：

機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表面，鏡面拋光蠟，可使用轉臺等輔助工具，表面質量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用定制的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速旋轉運動，配合拋光蠟使用。

2.化學拋光使用拋光蠟：

化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需復雜設備。

拋光蠟常用于哪些方面？

1.流體拋光使用拋光蠟：

流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒；中刷工件表面達到拋光的目的。常用方法有：磨科噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體介質高速往復流過工件表面。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質)并摻上磨料制咸，磨料可采用碳化硅粉末。

2.磁研磨拋光使用拋光蠟：

磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質量好，加工條件容易控制，工作條件好。采用合適的磨料，表面粗糙度可以達到Ra0.1μm。而使用拋光、手動或自動拋光、能使表面質量又達到不同的要求。

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